2024 年 8 月 21 日消息，天眼查知識產權信息顯示，武漢敏聲新技術有限公司取得一項名爲“一種釋放監控結構及其製備方法“，授權公告號 CN118100854B，申請日期爲 2024 年 3 月。

專利摘要顯示，本發明公開了一種釋放監控結構及其製備方法，釋放監控結構的襯底包括襯底層、氧化層和功能層，氧化層位於襯底層與功能層之間，功能層位於氧化層遠離述襯底層的一側；功能層包括空腔以爲圍繞空腔 的功能層本體；擋牆結構位於氧化層遠離襯底層的一側，並且位於功能層本體靠近空腔的一側；諧振堆疊結構包括電極層和壓電層；通道包括至少兩個犧牲通道和觀測通道；沿釋放監控結構的厚度方向，通道與空腔存在交疊，犧牲通道貫穿諧振堆疊結構，觀測通道貫穿部分電極層。通過在釋放監控結構中增加電極層，並且增添觀測通道，保證釋放監控結構製備空腔的進程與一般諧振器的空腔製備進程相近，保證釋放監控結構的監測效果。